بررسی سرعت حرکت لایهی جریان در یک دستگاه پلاسمای کانونی با انرژی 2.2 کیلوژول
View/ Open
Date
2023-04-10Author
تفرشی, محمد امیر حمزه
رستمیفرد, داریوش
نصیری, علی
Metadata
Show full item recordAbstract
این مقاله پس از معرفی اجمالی دستگاه پلاسمای کانونی 1-MTPF، نمونههایی از دادههای تجربی آن را ارایه میدهد. دادهها نشان میدهند که میتوان با انتخاب فشار گاز و ولتاژ تخلیهی مناسب، شرایطی را فراهم کرد تا تنگش پلاسما در محدودهی خاصی از زمان اتفاق بیفتد. علاوه براین، تأثیر فشار گاز و ولتاژ تخلیه بر سرعت متوسط حرکت لایهی جریان نیز مورد بررسی قرار گرفت که نشان داد که در صورت استفاده از گاز آرگون، بیشینهی سرعت متوسط حرکت لایهی جریان در حدود 1-5cm µs است که میتواند با ترکیبهای مختلفی از فشار گاز و ولتاژ تخلیه به دست آید. با استفاده از مفهوم ضریب سرعت، سرعت حرکت لایهی جریان در لحظهی تنگش نیز مورد بررسی قرار گرفت و مشخص شد که در دو آزمایش مختلف با فشار گاز و ولتاژ تخلیهی متفاوت، یکسان بودن زمان تنگش حدوداً بیانگر یکسان بودن سرعت متوسط حرکت لایهی جریان است.